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Anisotropic In‐Plane Ballistic Transport in Monolayer Black Arsenic‐Phosphorus FETs

之字形的 材料科学 单层 各向异性 晶体管 半导体 磷烯 场效应晶体管 弹道传导 纳米技术 凝聚态物理 光电子学 电气工程 电压 物理 光学 几何学 数学 工程类 量子力学 电子
作者
Wenhan Zhou,Shengli Zhang,Yangyang Wang,Shiying Guo,Hengze Qu,Pengxiang Bai,Zhi Li,Haibo Zeng
出处
期刊:Advanced electronic materials [Wiley]
卷期号:6 (3) 被引量:63
标识
DOI:10.1002/aelm.201901281
摘要

Abstract The performance limits of monolayer arsenic‐phosphorus (AsP) field‐effect transistors (FETs) are explored by first‐principles simulations of ballistic transport in nanoscale devices. The monolayer AsP holds a direct bandgap of 0.92 eV with significantly anisotropic electronic properties. Transfer characteristics of n‐type and p‐type AsP FETs are thoroughly investigated by scaling channel length in the armchair and zigzag direction, respectively. The simulation results indicate that AsP FETs exhibit exceptional device characteristics, such as high on‐state current, short delay time, and low power consumption. Moreover, transfer characteristics demonstrate superior anisotropy on in‐plane electrical transport properties. In particular, in the zigzag direction, even if the channel length is scaled down to 4 nm, the device performance still can satisfy the International Technology Roadmap for Semiconductors high‐performance requirement. Finally, through benchmarking energy‐delay product against other typical 2D FETs, AsP FETs are revealed to be strongly competitive 2D FETs.

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