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Optical properties of stepped-cone silicon nanostructures fabricated by nanosphere mask and RIE method

材料科学 防反射涂料 纳米结构 纳米球光刻 反应离子刻蚀 基质(水族馆) 蚀刻(微加工) 光电子学 单层 纳米技术 涂层 图层(电子) 制作 医学 海洋学 替代医学 病理 地质学
作者
Yufang Li,Kai Gao,Binbin Xu,Quntao Tang,Honglie Shen
出处
期刊:Materials Technology [Informa]
卷期号:37 (8): 760-767
标识
DOI:10.1080/10667857.2021.1879528
摘要

Highly ordered silicon nanostructures were fabricated using the nanosphere mask and reactive ion etching method. A self-assembled SiO2 nanospheres monolayer obtained by spin-coating method was used as an etching mask for pattern transfer onto the Si substrate. The shape and height of these nanostructures were precisely controlled by the etching time. The optical properties of as-prepared nanostructure were investigated by experiments and simulation. Experimental results showed that the average reflectance in wavelength range of 400–1000 nm decreased from 33.6% to 4.6%. Simulation results were in good agreement with experimental results. Accordingly, this novel method is therefore considered to be an easy approach to fabricate different nanostructures for broadband antireflective surfaces for solar cells.
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