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Ultraflatbands and Shear Solitons in Moiré Patterns of Twisted Bilayer Transition Metal Dichalcogenides

双层 凝聚态物理 双层石墨烯 扭转 堆积 材料科学 密度泛函理论 过渡金属 电子能带结构 价(化学) 相变 物理 石墨烯 纳米技术 几何学 化学 量子力学 催化作用 生物化学 核磁共振 数学
作者
Mit H. Naik,Manish Jain
出处
期刊:Physical Review Letters [American Physical Society]
卷期号:121 (26) 被引量:409
标识
DOI:10.1103/physrevlett.121.266401
摘要

Ultraflatbands in twisted bilayers of two-dimensional materials have the potential to host strong correlations, including the Mott-insulating phase at half-filling of the band. Using first-principles density functional theory calculations, we show the emergence of ultraflatbands at the valence band edge in twisted bilayer MoS_{2}, a prototypical transition metal dichalcogenide. The computed band widths, 5 and 23 meV for 56.5° and 3.5° twist angles, respectively, are comparable to that of twisted bilayer graphene near "magic" angles. Large structural transformations in the moiré patterns lead to formation of shear solitons at stacking boundaries and strongly influence the electronic structure. We extend our analysis for twisted bilayer MoS_{2} to show that flatbands can occur at the valence band edge of twisted bilayer WS_{2}, MoSe_{2}, and WSe_{2} as well.
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