First Principle Molecular Dynamic Simulations of Oxygen Plasma Etching of Organosilicate Low Dielectric Materials

电介质 等离子体 蚀刻(微加工) 等离子体刻蚀 分子动力学 材料科学 等离子体化学 纳米技术 工程物理 化学物理 光电子学 物理 化学 计算化学 核物理学 图层(电子)
作者
Jincheng Du,Mrunal Chaudhari
出处
期刊:Ceramic engineering and science proceedings 卷期号:: 119-125
标识
DOI:10.1002/9780470944103.ch12
摘要

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