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Asynchronous 1R-1W dual-port SRAM by using single-port SRAM in 28nm UTBB-FDSOI technology

静态随机存取存储器 异步通信 端口(电路理论) 计算机科学 绝缘体上的硅 嵌入式系统 计算机硬件 电子工程 工程类 计算机网络 物理 光电子学
作者
Harsh Rawat,Krishna Bharath,Alexander Fell
标识
DOI:10.1109/socc.2017.8225994
摘要

With the advancement in technology nodes, the number of components operating in different clock domains in a System on Chip (SoC) increases. Asynchronous multi-port memory with dedicated write and read ports is used to allow data to cross clock domain boundaries. The dual-port memory architecture introduced in this paper, is based on the Single-Port SRAM (SP-SRAM) that can be generated in larger capacities with better performance statistics compared to the Dual-Port SRAM (DP-SRAM). The proposed design has been evaluated by comparing existing dual-port 1R-1W and 2RW designs in 28nm Ultra Thin Body and Box Fully Depleted Silicon on Insulator (UTBB-FDSOI) technology. A memory with a capacity of 2048 words with 64 bits, shows 15%, 35%, 28% and 4.5% improvement in read power, write power, read-write power consumption and performance respectively over conventional 1R-1W DP-SRAM with equal area. The synthesis with area optimizations applied instead, shows an area advantage of 50% over conventional 1R-1W DP-SRAM, but with a degradation in performance.
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