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Atomic Layer Deposition of WO3-Doped In2O3 for Reliable and Scalable BEOL-Compatible Transistors

原子层沉积 材料科学 兴奋剂 图层（电子） 沉积（地质） 光电子学 纳米技术 古生物学 沉积物 生物
作者
Chanyoung Yoo,Jonathan Hartanto,Balreen Saini,W. Tsai,Vivek Thampy,Somayeh Saadat Niavol,Andrew C. Meng,Paul C. McIntyre
出处
期刊：Nano Letters [American Chemical Society]
日期：2024-04-30 卷期号：24 (19): 5737-5745
链接
nih.govdoi.org
标识
DOI：10.1021/acs.nanolett.4c00746
摘要
Tungsten oxide (WO
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