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Tunnel field-effect transistors as energy-efficient electronic switches

量子隧道 晶体管 CMOS芯片 场效应晶体管 电子线路 光电子学 消散 隧道场效应晶体管 电压 材料科学 电气工程 纳米线 集成电路 半导体 物理 工程类 热力学
作者
Adrian M. Ionescu,Heike Riel
出处
期刊:Nature [Springer Nature]
卷期号:479 (7373): 329-337 被引量:2599
标识
DOI:10.1038/nature10679
摘要

Power dissipation is a fundamental problem for nanoelectronic circuits. Scaling the supply voltage reduces the energy needed for switching, but the field-effect transistors (FETs) in today's integrated circuits require at least 60 mV of gate voltage to increase the current by one order of magnitude at room temperature. Tunnel FETs avoid this limit by using quantum-mechanical band-to-band tunnelling, rather than thermal injection, to inject charge carriers into the device channel. Tunnel FETs based on ultrathin semiconducting films or nanowires could achieve a 100-fold power reduction over complementary metal-oxide-semiconductor (CMOS) transistors, so integrating tunnel FETs with CMOS technology could improve low-power integrated circuits.
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