Defects in plasma-deposited a-Si: H

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作者
J. C. Knights,G. Lucovsky,R. J. Nemanich
出处
期刊:Journal of Non-crystalline Solids [Elsevier]
卷期号:32 (1-3): 393-403 被引量:242
标识
DOI:10.1016/0022-3093(79)90084-x
摘要

The relationships between hydrogen vibrational spectra, electron spin densities and refractive index are investigated for a range of plasma-deposited amorphous silicon-hydrogen alloys. Results are also presented on the morphology of thick films as shown by scanning electron microscopy. A model is proposed for the structural origin of defects in these alloys based on voids that grow perpendicular to the film surface and are associated with coupled SiH2 units.

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