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Chemical process of silicon epitaxial growth in a SiHCl3–H2 system

外延 薄脆饼 基质(水族馆) 氯硅烷 材料科学 分析化学(期刊) 大气压力 化学 化学工程 光电子学 纳米技术 有机化学 工程类 地质学 图层(电子) 海洋学
作者
Hitoshi Habuka,Yasuaki Aoyama,S. Akiyama,Toru Otsuka,Wei-Feng Qu,Manabu Shimada,Kikuo Okuyama
出处
期刊:Journal of Crystal Growth [Elsevier]
卷期号:207 (1-2): 77-86 被引量:61
标识
DOI:10.1016/s0022-0248(99)00360-7

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