Electronic and interfacial properties of graphene/HfS2 van der Waals heterostructure

欧姆接触 范德瓦尔斯力 肖特基势垒 异质结 石墨烯 偶极子 密度泛函理论 材料科学 工作职能 凝聚态物理 电场 肖特基二极管 纳米技术 光电子学 化学 计算化学 物理 量子力学 分子 图层(电子) 二极管 有机化学
作者
S. Karbasizadeh,F Fanaeeparvar,I. Abdolhosseini Sarsari
出处
期刊:Electronic structure [IOP Publishing]
卷期号:4 (2): 025003-025003
标识
DOI:10.1088/2516-1075/ac6b6f
摘要

Abstract Using density functional theory calculations and the addition of van der Waals correction, the graphene/HfS 2 heterojunction is constructed, and its electronic properties are examined thoroughly. This interface is determined as n -type ohmic, and the impacts of different amounts of interlayer distance and strain on the contact are shown using Schottky barrier height and electron injection efficiency. Dipole moment and work function of the interface are also altered when subjected to change in these two categories. The effects of an applied electric field on transforming the ohmic contact to Schottky is also investigated. The conclusions given can assist in the design and modeling of HfS 2 based devices in the future.

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