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Comparative analysis on negative-bias-illumination-stress instabilities between planar- and vertical-channel thin-film transistors using InGaZnO active channels prepared by atomic-layer deposition

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作者
Jiwon Kang,Dong-Hee Lee,Young-Ha Kwon,Nak‐Jin Seong,Kyu-Jeong Choi,Chi‐Sun Hwang,Sung‐Min Yoon
出处
期刊：Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier]
日期：2024-07-04 卷期号：181: 108665-108665
标识
DOI：10.1016/j.mssp.2024.108665
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