Pressure-driven anomalous thermal transport behaviors in gallium arsenide

材料科学 砷化镓 声子 凝聚态物理 热导率 半导体 热电效应 格子(音乐) 光电子学 复合材料 冶金 热力学 声学 物理
作者
Zhongyin Zhang,Xuanhui Fan,Jie Zhu,Kunpeng Yuan,Jing Zhou,Dawei Tang
出处
期刊:Journal of Materials Science & Technology [Elsevier]
卷期号:142: 89-97 被引量:3
标识
DOI:10.1016/j.jmst.2022.10.009
摘要

High-pressure has been widely utilized to improve material performances such as thermal conductivity κ and interfacial thermal conductance G. Gallium arsenide (GaAs) as a functional semiconductor has attracted extensive attention in high-pressure studies for its technological importance and complex structure transitions. Thermal properties of GaAs under high pressure are urgent needs in physics but remain elusive. Herein, we systematically investigate κGaAs and GAl/GaAs of multi-structure up to ∼23 GPa. We conclude that: (1) in pressurization, phonon group velocity, lattice defects, and electrons play a central role in κGaAs in elastic, plastic, and metallization regions, respectively. The increased phonon density of states (PDOS) overlap, group velocity, and interfacial bonding enhances GAl/GaAs. (2) In depressurization, electrons remain the dominant factor on κGaAs from 23 to 13.5 GPa. GAl/GaAs increases dramatically at ∼12 GPa due to the larger PDOS overlap. With decompressing to ambient, lattice defects including grain size reduction, arsenic vacancies, and partial amorphization reduce κGaAs to a glass-like value. Remarkably, the released GAl/GaAs is 2.6 times higher than that of the initial. Thus our findings open a new dimension in synergistically realizing glass-like κ and enhancing G, which can facilitate thermoelectric performance and its potential engineering applications.
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