t‐Si64: A Novel Silicon Allotrope

带隙 四方晶系 材料科学 直接和间接带隙 半导体 声子 热电效应 钻石 电子能带结构 热导率 凝聚态物理 结晶学 晶体结构 化学 光电子学 热力学 物理 复合材料
作者
Qingyang Fan,Rui Niu,Wenzhu Zhang,Wei Zhang,Yingchun Ding,Sining Yun
出处
期刊:ChemPhysChem [Wiley]
卷期号:20 (1): 128-133 被引量:54
标识
DOI:10.1002/cphc.201800903
摘要

Abstract Utilizing first principle calculations, a novel Si 64 silicon allotrope in the I 4 1 / amd space group with tetragonal symmetry (denoted as t ‐Si 64 below) is proposed in this work. In addition, also its structural, anisotropic mechanical, and electronic properties along with its minimum thermal conductivity κ min were predicted. The mechanical and thermodynamic stability of t ‐Si 64 were evaluated by means of elastic constants and phonon spectra. The electronic band structure indicates that t ‐Si 64 is an indirect band gap semiconductor with a band gap: 0.67 eV (primitive cell) compared to a direct band gap of 0.70 eV with respect to a conventional cell. The minimum thermal conductivity of t ‐Si 64 (0.74 W cm −1 K −1 ) is much smaller than that of diamond silicon (1.13 W cm −1 K −1 ). Therefore, Si−Ge alloys in the I 4 1 / amd space group are potential thermoelectric materials.
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