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Intrinsic stress in silicon nitride and silicon dioxide films prepared by various deposition techniques

氮化硅 二氧化硅 硅 材料科学 压力（语言学） 氮化物 光电子学 机车 沉积（地质） 纳米技术 复合材料 图层（电子） 沉积物 古生物学 哲学 生物 语言学
作者
Jerzy Kanicki,Peter Wagner,J. Karasinsk,J. Angilello
标识
DOI：10.1109/elinsl.1988.13891
摘要
Summary form only given. The mechanical stress caused by silicon nitride and silicon dioxide films on
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