Growth and properties of scandium epitaxial films on GaN

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作者
R. Kaplan,S. M. Prokes,S.C. Binari,G. Kelner
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:68 (23): 3248-3250 被引量:21
标识
DOI:10.1063/1.116563
摘要

Epitaxial scandium films have been grown on c-axis-oriented wurtzite GaN. The films are highly ordered, adherent, and reflective. For substrate temperatures in the range 640–780 °C an interfacial reaction yields a ScN layer whose thickness increases with temperature, consistent with Sc diffusion as the rate limiting step. Electrical contacts fabricated from the Sc/ScN/GaN films exhibit a 1.0 eV barrier height on n-type GaN. The Sc films, which represent a class of ductile materials, may constitute a compliant substrate for overgrowth of GaN.
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