High-performance bismuth telluride thermoelectric thin films fabricated by using the two-step single-source thermal evaporation

碲化铋 热电效应 材料科学 塞贝克系数 热电材料 薄膜 蒸发 光电子学 纳米技术 复合材料 热导率 物理 热力学
作者
Ping Fan,Pengcheng Zhang,Guangxing Liang,Fu Li,Yuexing Chen,Jingting Luo,Xianghua Zhang,Shuo Chen,Zhuanghao Zheng
出处
期刊:Journal of Alloys and Compounds [Elsevier]
卷期号:819: 153027-153027 被引量:35
标识
DOI:10.1016/j.jallcom.2019.153027
摘要

Bismuth telluride (Bi2Te3) is an efficient thermoelectric material, and fabricating Bi2Te3 thin films with good thermoelectric properties is a prerequisite to realizing the potential of these materials in microdevice application. Controllable content deposition and low-negative thermal treatment are the two main challenges in preparing high-performance thin films. In this study, stoichiometric Bi2Te3 thin films were successfully fabricated via the two-step thermal vapor process with a single evaporation source. Then, the rapid thermal process, which could avoid component loss, was used to further improve the crystallinity and thermoelectric properties of thin films. The Seebeck coefficient of Bi2Te3 thin films clearly increased after rapid heat treatment, leading to enhanced power factor and good flexibility. Such thin films exhibited low thermal conductivity due to their nano-sized grains, resulting in high ZT of flexible Bi2Te3 thin films.
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