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Effect of near-substrate plasma density in the reactive magnetron sputter deposition of hydrogenated amorphous germanium

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作者
Tobin Kaufman-Osborn,Kristin M. Pollock,Jonas Hiltrop,Kyle Braam,Steven Fazzio,James R. Doyle
出处
期刊：Thin Solid Films [Elsevier]
日期：2011-09-17 卷期号：520 (6): 1866-1871 被引量：4
标识
DOI：10.1016/j.tsf.2011.09.018
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