材料科学
电容器
电介质
吞吐量
纳米尺度
化学气相沉积
聚合物
沉积(地质)
电容感应
光电子学
图层(电子)
纳米技术
化学工程
复合材料
电压
电气工程
计算机科学
古生物学
工程类
生物
电信
无线
沉积物
作者
Yao Zhou,Qi Li,Bin Dang,Yang Yang,Tao Shao,Li He,Jun Hu,Rong Zeng,Jinliang He,Qing Wang
标识
DOI:10.1002/adma.201870378
摘要
High-throughput production of high-temperature capacitor films is realized by Qi Li, Jinliang He, Qing Wang, and co-workers in article number 1805672 through fast and continuous deposition of a nanoscale thin layer of an insulating barrier using atmospheric-pressure plasma-enhanced chemical vapor deposition. This approach should be adaptable to the industrial extrusion method for highly productive manufacturing of capacitor films.
科研通智能强力驱动
Strongly Powered by AbleSci AI