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作者
Yao Zhou,Qi Li,Bin Dang,Yang Yang,Tao Shao,He Li,Jun Hu,Rong Zeng,Jinliang He,Qing Wang
标识
DOI:10.1002/adma.201870378
摘要
High-throughput production of high-temperature capacitor films is realized by Qi Li, Jinliang He, Qing Wang, and co-workers in article number 1805672 through fast and continuous deposition of a nanoscale thin layer of an insulating barrier using atmospheric-pressure plasma-enhanced chemical vapor deposition. This approach should be adaptable to the industrial extrusion method for highly productive manufacturing of capacitor films.
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