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Influence of sputtering parameters on the crystallinity and crystal orientation of AlN layers deposited by RF sputtering using the AlN target

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作者
Z. Vashaei,Toshiaki Aikawa,Makoto Ohtsuka,Hidekazu Kobatake,Hiroyuki Fukuyama,Susumu Ikeda,K Takada
出处
期刊：Journal of Crystal Growth [Elsevier]
日期：2008-09-22 卷期号：311 (3): 459-462 被引量：63
标识
DOI：10.1016/j.jcrysgro.2008.09.046
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