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作者
Axel Schindler,Gerhard Boehm,W. Frank,Thomas Haensel,A. Nickel,F. Bigl,M. Weiser
标识
DOI：10.1364/oft.2000.omb1
摘要
Deep precision asphere fabrication has been demonstrated by three advanced technologies: high rate figuring by Plasma Jet Chemical Etching (PJCE) or Radical Jet Etching (RJE) respectively, Computer Controlled Polishing (CCP) and Ion Beam Figuring (IBF).
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