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Dependence of RF Power Bias on Hydrogenated Amorphous Silicon by High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition

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作者
Wen-Chu Hsiao,Chuan‐Pu Liu,Ying-Lang Wang
出处
期刊：Meeting abstracts 日期：2006-02-17 卷期号：MA2005-02 (24): 883-883
标识
DOI：10.1149/ma2005-02/24/883
摘要
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