Cl-induced passivity breakdown in α-Fe2O3 (0001), α-Cr2O3 (0001), and their interface: A DFT study

空位缺陷 材料科学 密度泛函理论 氧化物 被动性 克罗米亚 扩散 氯化物 离子 化学物理 结晶学 冶金 计算化学 热力学 化学 工程类 物理 有机化学 电气工程
作者
Xiaoran Yin,Haitao Wang,En‐Hou Han
出处
期刊:Journal of Materials Science & Technology [Elsevier]
卷期号:129: 70-78 被引量:14
标识
DOI:10.1016/j.jmst.2022.03.034
摘要

The presence of chloride ions is the critical factor of passivity breakdown of the protective film and eventually leads to localized corrosion. However, the mechanism and the role of chlorides in these processes are still controversial. Hematite and chromia are generally believed to be the major components of outer and inner oxide layers on stainless steels. In the present paper, a comparative study of Cl ingress into pristine and defective α-Fe2O3 (0001) surface, α-Cr2O3 (0001) surface, along with their interface, was conducted using density functional theory. Vacancy formation energy calculation confirms good stability of α-Cr2O3 and high reactive activity of the interface region. Cl inserts into an O vacancy is energetically more favorable than Fe vacancy and interstitial site, demonstrating Cl-induced degradation complies with the ion exchange model. Transition state search for Cl diffusion through O vacancies shows α-Cr2O3 is more protective than α-Fe2O3, while the interface region is the weak point of the duplex passive film.

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