Molecular dynamics simulation of silicon vacancy defects in silicon carbide by hydrogen ion implantation and subsequent annealing

空位缺陷 退火(玻璃) 离子注入 材料科学 分子动力学 化学物理 碳化硅 离子 晶体缺陷 兴奋剂 分子物理学 结晶学 光电子学 计算化学 化学 冶金 有机化学
作者
Y. H. Fan,Zongwei Xu,Ying Song,Tianze Sun
出处
期刊:Diamond and Related Materials [Elsevier]
卷期号:119: 108595-108595 被引量:12
标识
DOI:10.1016/j.diamond.2021.108595
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