Repair Engineering of Crystal Structure in van der Waals Materials by Probe Electron Beam

范德瓦尔斯力 阴极射线 晶体结构 材料科学 电子 纳米技术 晶体工程 化学物理 结晶学 分子物理学 化学 物理 分子 量子力学 超分子化学
作者
Nan Wang,Shiyang Wei,Xia Deng,Li Wang,Yaxing Zhang,Xinrui Zhao,Wang Hu,Xue Zeng,Chuang Ye,Xiaoke Mu,Junwei Zhang,Laiyuan Wang,Xixiang Zhang,Li Wang,Peng Zhang,Yong Peng
出处
期刊:Nano Letters [American Chemical Society]
卷期号:24 (35): 11028-11035
标识
DOI:10.1021/acs.nanolett.4c03119
摘要

The advancement of electronic technology has led to increasing research on performance and stability. Continuous electrical pulse stimulation can cause crystal structure changes, affecting performance and accelerating aging. Controlled repair of these defects is crucial. In this study, we investigated crystal structure changes in van der Waals (vdW) InSe crystals under continuous electric pulses by using electron beam lithography (EBL) and spherical aberration corrected transmission electron microscopy (Cs-TEM). Results show that electrical pulses induce amorphous regions in the InSe lattice, increasing the device resistance. We used Cs-STEM probe scanning for precise repair, abbreviated SPRT, to optimize device performance. SPRT is related to electric fields induced by the electron beam and can be applied to other 2D materials like α-In

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