Disorder and its impact on mobility of undoped GaN

载流子 电子迁移率 材料科学 格子(音乐) 凝聚态物理 化学计量学 晶格常数 载流子密度 光电子学 化学 物理 兴奋剂 衍射 物理化学 光学 声学
作者
Robert A. Makin,A. S. Messecar,S. M. Durbin
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:125 (21)
标识
DOI:10.1063/5.0244197
摘要

While it is widely appreciated that disorder is intricately related to observed sample-to-sample variation in property values, outside of very specialized cases, analysis is often qualitative in nature. One well-understood quantitative approach is based on the 1930s work of Bragg and Williams, who established an order parameter S, which ranges from unity in the case of a perfectly ordered structure to zero in the case of a completely randomized lattice. Here, we demonstrate that this order parameter is directly related to charge carrier mobility in undoped GaN. Extrapolating experimental points yields a value of 1640 cm2/Vs for the maximum room temperature mobility in stoichiometric material, with higher values potentially accessible for Ga-rich material. Additionally, we present a model for observed trends in carrier concentration based on the occurrence of distinct structural motifs, which underpin S. The result is an alternative perspective for the interplay between lattice structure and charge carriers that enables a predictive model for tuning mobility and carrier concentration in undoped material.
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