Critical Voltage for Electrical Degradation of GaN High-Electron Mobility Transistors

阈值电压 降级(电信) 电子迁移率 击穿电压 MOSFET 场效应晶体管 异质结 电子
作者
Jungwoo Joh,J.A. del Alamo
出处
期刊:IEEE Electron Device Letters [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:29 (4): 287-289 被引量:248
标识
DOI:10.1109/led.2008.917815
摘要

We have found that there is a critical drain-to-gate voltage beyond which GaN high-electron mobility transistors start to degrade in electrical-stress experiments. The critical voltage depends on the detailed voltage biasing of the device during electrical stress. It is higher in the OFF state and high-power state than at VDS = 0. In addition, as |VGS| increases, the critical voltage decreases. We have also found that the stress current does not affect the critical voltage although soft degradation at low voltages takes place at high stress currents. All of our findings are consistent with a degradation mechanism based on crystallographic-defect formation due to the inverse piezoelectric effect. Hot-electron-based mechanisms seem to be in contradiction with our experimental results.
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