Experimental Demonstration of a 650-V Superjunction MOSFET With Dual Schottky Contacts for Fast Reverse Recovery

MOSFET 对偶(语法数字) 肖特基二极管 材料科学 光电子学 电气工程 电子工程 计算机科学 工程类 晶体管 电压 艺术 文学类 二极管
作者
Ping Li,Da Wang,Zhi Lin,Rongyao Ma,Shengdong Hu
出处
期刊:IEEE Transactions on Electron Devices [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:71 (6): 3818-3822
标识
DOI:10.1109/ted.2024.3389634
摘要

In this article, we demonstrate the experimental results of a 650-V superjunction MOSFET (SJ-MOSFET) featuring dual Schottky contacts at the source side to reduce the reverse recovery charge ( $\textit{Q}_{\text{rr}}\text{)}$ of its body diode. The n-type Schottky contact suppresses the operation of the p-n junction, and the p-type Schottky contact lowers the hole injection efficiency further. Both of them reduce $\textit{Q}_{\text{rr}}$ . According to the experimental results, $\textit{Q}_{\text{rr}}$ of the proposed SJ-MOSFET (1.4 $\mu$ C) is 20.5% of that of the conventional device (6.8 $\mu$ C) and 38.9% of that of the device with only n-type Schottky contact (3.6 $\mu$ C). The forward voltage drop of its body diode is 0.91 V, which is 0.07 V higher than that of the conventional device and 0.09 V higher than that of the device with only n-type Schottky contact. These characteristics make it be suitable for high-speed switching applications.

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