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Evaluation of chemical mechanical polishing characteristics using mixed abrasive slurry: A study on polishing behavior and material removal mechanism

抛光 化学机械平面化 磨料 泥浆 材料科学 表面粗糙度 钻石 无定形固体 冶金 复合材料 表面光洁度 化学工程 化学 结晶学 工程类
作者
X. Zhu,Juxuan Ding,Zhangchao Mo,Xuesong Jiang,Jifei Sun,Hao Fu,Yuziyu Gui,Boyuan Ban,Ling Wang,Jian Chen
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier BV]
卷期号:679: 161157-161157 被引量:2
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2024.161157
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