Evaluation of chemical mechanical polishing characteristics using mixed abrasive slurry: A study on polishing behavior and material removal mechanism

抛光 化学机械平面化 磨料 泥浆 材料科学 机制(生物学) 冶金 复合材料 认识论 哲学
作者
X. Zhu,Juxuan Ding,Zhangchao Mo,Xuesong Jiang,Jifei Sun,Hao Fu,Yuziyu Gui,Boyuan Ban,Ling Wang,Jian Chen
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier]
卷期号:679: 161157-161157
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2024.161157
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