Mind the Interface Gap: Exposing Hidden Interface Defects at the Epitaxial Heterostructure between CuO and Cu2O

异质结 带材弯曲 材料科学 光电流 带隙 外延 光电子学 化学物理 电子结构 混合功能 载流子 密度泛函理论 凝聚态物理 纳米技术 计算化学 化学 物理 图层(电子)
作者
Aleksandar Živković,Giuseppe Mallia,Helen E. King,Nora H. de Leeuw,N. M. Harrison
出处
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces [American Chemical Society]
卷期号:14 (50): 56331-56343 被引量:5
标识
DOI:10.1021/acsami.2c16889
摘要

Well designed and optimized epitaxial heterostructures lie at the foundation of materials development for photovoltaic, photocatalytic, and photoelectrochemistry applications. Heterostructure materials offer tunable control over charge separation and transport at the same time preventing recombination of photogenerated excitations at the interface. Thus, it is of paramount importance that a detailed understanding is developed as the basis for further optimization strategies and design. Oxides of copper are nontoxic, low cost, abundant materials with a straightforward and stable manufacturing process. However, in individual applications, they suffer from inefficient charge transport of photogenerated carriers. Hence, in this work, we investigate the role of the interface between epitaxially aligned CuO and Cu
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