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Nanoscale ferroelectric domain switching and thickness scaling impact in undoped hafnium-oxide ferroelectric devices

铁电性 纳米尺度 缩放比例 材料科学 光电子学 氧化物 纳米技术 电介质 冶金 几何学 数学
作者
Chia-Chi Fan,Hsuan-Han Chen,Ruo-Yin Liao,Wu‐Ching Chou,Ching-Chien Huang,Hsiao‐Hsuan Hsu,Su‐Ting Han,Chun‐Hu Cheng
出处
期刊:Thin Solid Films [Elsevier BV]
卷期号:799: 140400-140400
标识
DOI:10.1016/j.tsf.2024.140400

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