Self‐Limited Switching in Ta2O5/TaOx Memristors Exhibiting Uniform Multilevel Changes in Resistance

记忆电阻器 材料科学 光电子学 切换时间 氧化物 高电阻 纳米技术 随机存取存储器 凝聚态物理 拓扑(电路) 电气工程 计算机科学 物理 工程类 生物 冶金 计算机硬件 农学
作者
Kyung Min Kim,Seung Ryul Lee,Sungho Kim,Man Chang,Cheol Seong Hwang
出处
期刊:Advanced Functional Materials [Wiley]
卷期号:25 (10): 1527-1534 被引量:123
标识
DOI:10.1002/adfm.201403621
摘要

To facilitate the development of memristive devices, it is essential to resolve the problem of non‐uniformity in switching, which is caused by the random nature of the filamentary switching mechanism in many resistance switching memories based on transition metal oxide. In addition, device parameters such as low‐ and high‐state resistance should be regulated as desired. These issues can be overcome if memristive devices have switching limits for both the low‐ and high‐resistance states and if their resistance values are highly controllable. In this study, a method termed self‐limited switching for uniformly regulating the values of both the low‐ and high‐resistance states is suggested, and the circuit configuration required for the self‐limited switching is established in a Ta 2 O 5 /TaO x memristive structure. A method of improving the uniformity of multi‐level resistance states in this memristive system is also proposed.
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