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Raman Scattering Measurement of Suspended Graphene under Extreme Strain Induced by Nanoindentation

石墨烯 材料科学 拉曼光谱 纳米压痕 拉曼散射 拉伤 纳米技术 石墨烯纳米带 光电子学 光学 复合材料 医学 物理 内科学
作者
Kyuyeon Won,Chanwoo Lee,Jaehyuck Jung,Sanghyuk Kwon,Yisehak Gebredingle,Jang Gyun Lim,Moon Ki Kim,Mun Seok Jeong,Changgu Lee
出处
期刊:Advanced Materials [Wiley]
卷期号:34 (30) 被引量:16
标识
DOI:10.1002/adma.202200946
摘要

Graphene is known as a superstiff and extremely strong material. Hence, applying strains greater than 1% to graphene and simultaneously measuring changes in its physical properties has been challenging because of the limited methodologies for measuring both high strain and other physical properties. Here, Raman scattering measurement of suspended graphene under extremely high biaxial strain as large as 6.1% using an atomic force microscopy (AFM)-Raman spectroscopy measurement tool is reported. Nanoindentation is performed using AFM tips machined to have a flat top and a hole shape, resulting in a strained graphene area sufficiently large to enable the acquisition of a Raman signal. At the same time, the laser light is focused on the strained flat area of the graphene membrane. The Raman signals of the G and 2D bands of graphene are redshifted by 282 and 684 cm-1 , respectively, which is unprecedented for graphene. This measurement technique provides an effective methodology to measure variations in the physical properties of atomically thin materials under superhigh strain.
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