CMP legend: revolution and evolution

摩尔定律 图例 数码产品 晶体管 集成电路 国家(计算机科学) 纳米技术 计算机科学 工程物理 电气工程 工程类 材料科学 历史 艺术史 算法 电压
作者
Manabu Tsujimura
出处
期刊:Japanese Journal of Applied Physics [Institute of Physics]
卷期号:61 (SJ): SJ0801-SJ0801 被引量:2
标识
DOI:10.35848/1347-4065/ac571c
摘要

Abstract Since the invention of the transistor in 1947, semiconductors have seen phenomenal development in accordance with Moore’s Law G. E. Moore, Electronics 38 , 19, (1965), which is based on Dennard’s theory R. H. Dennard, et al. IEEE J. Solid-State Circuits , 9 , 256 (1974) on scaling. More than 30 years have passed since the advent of CMP M. Kashiwagi, CMP Science , 26 , (1977), the “most amazing technology that has contributed most to Moore’s law” according to Dr. Moore. Beginning with the CMP life cycle, this paper looks back on the history of CMP development, recognizes the current situation, and overlooks the future of polishing, cleaning, and monitoring. The paper also introduces the evolution of CMP, a revolutionary technology that emerged in the 1980s, together with some trivia from that period, and further introduces some episodes that are already or will be handed down as legends. In preparation for the paradigm revolution of semiconductors that is expected to occur in 2030, CMP software, as well as hardware, needs to advance more dramatically than before.
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