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Structural studies on MOCVD grown GaN and AlGaN using atomic force microscopy

金属有机气相外延 原子力显微镜 材料科学 光电子学 显微镜 纳米技术 外延 光学 物理 图层(电子)
作者
R. S. Qhalid Fareed,Saulius Juodkazis,Sung Hoon Chung,Tomoya Sugahara,S. Sakai
出处
期刊:Materials Chemistry and Physics [Elsevier]
卷期号:64 (3): 260-264 被引量:10
标识
DOI:10.1016/s0254-0584(99)00234-5
摘要

Abstract Surface morphology studies of GaN and AlGaN grown by metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) have been carried out using atomic force microscopy. The open core dislocation and steps connecting two threading dislocations of opposite direction are commonly observed in undoped and doped GaN. Structural studies on AlGaN epitaxial layers grown on undoped GaN revealed the formation of open-core dislocation with width upto 300 nm. The nanopipes originate from the threading dislocation formed due to large lattice mismatch between sapphire and GaN. The mismatch also leads to high strain in the epilayers resulting in cracking effect at the edges of the hexagonal V-type defect. The self organized quantum dots features on the smooth surface of AlGaN epitaxial layer exhibit the Stranski–Krastanov(SK) mode of island growth.

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