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The enhancement mechanism of photo-response depending on oxygen pressure for Ga2O3 photo detectors

响应度 材料科学 分压 氧气 光电探测器 托尔 分析化学(期刊) 光电子学 基质(水族馆) 响应时间 脉冲激光沉积 薄膜 极限氧浓度 光学 纳米技术 化学 物理 海洋学 有机化学 计算机图形学(图像) 色谱法 计算机科学 热力学 地质学
作者
Thi Kim Oanh Vu,Dong Uk Lee,Eun Kyu Kim
出处
期刊:Nanotechnology [IOP Publishing]
卷期号:31 (24): 245201-245201 被引量:15
标识
DOI:10.1088/1361-6528/ab76f5
摘要

We have optimized the responsivity and response speed of a β-Ga2O3-based photodetector. The β-Ga2O3 thin films were deposited on a glass substrate under various oxygen partial pressures from 0 to 50 mTorr using pulsed laser deposition. Time-response measurements show that the as-grown β-Ga2O3 at an oxygen partial pressure of 50 mTorr has the fastest response speed and decay times of 33 and 100 ms, which are better than those prepared at lower oxygen pressures. This sample also showed a high photoresponsivity of 5 A W−1 and detectivity of 1012 cmHz1/2/W. The high performance of the β-Ga2O3 detector grown at the oxygen partial pressure of 50 mTorr might be due to the reduction of oxygen vacancies caused by the increase in oxygen content during deposition. The results reveal the importance of the oxygen processing gas in promoting photodetector performance.

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