Split-Gate Flash Memory Cell Odd/Even Fail Pattern Failure Analysis

闪存 计算机科学 失效机理 闪光灯(摄影) 电压 根本原因 非易失性存储器 存储单元 计算机硬件 材料科学 可靠性工程 电气工程 工程类 物理 光学 晶体管 复合材料
作者
Re‐Long Chiu,Jason Higgins,Shu-Lan Ying,Jones Chung,Gang Wang,Xu Liu,T Y Lim
出处
期刊:Proceedings
标识
DOI:10.31399/asm.cp.istfa2011p0393
摘要

Abstract A NOR-type split gate embedded Flash memory product program marginal fail with odd/even word line failure pattern. Based on cell current comparison, programming cycling tests and voltage drop measurements, the invisible cause of even/odd cells weak program failure mechanism was verified and confirmed visibly by cross sectioning and junction stain treatment. This problem was then solved by tightening photo alignment control and exposure conditions.

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