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Silicon-Based SERS Substrates Fabricated by Electroless Etching

拉曼散射 材料科学 银纳米粒子 纳米技术 纳米线 蚀刻(微加工) 纳米颗粒 拉曼光谱 硅纳米线 各向同性腐蚀 光电子学 分析化学(期刊) 光学 化学 物理 图层(电子) 有机化学
作者
Mohamed Y. El‐Sayed,Abdelaziz Gouda,Yehea Ismail,Mohamed A. Swillam
出处
期刊:Journal of Lightwave Technology [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:35 (14): 3075-3081 被引量:24
标识
DOI:10.1109/jlt.2017.2707476
摘要

Surface enhanced Raman scattering has recently been proposed as a label free sensing method for diagnostic applications. Raman scattering is an excellent analysis tool because a wealth of information can be obtained using a single measurement, however the weak signal has made it unsuitable for detecting low concentrations of analytes. Using plasmonic nanostructures to create SERS substrates, the Raman signal can be amplified by several orders of magnitude, but SERS substrates have been complicated to fabricate. Here we report low-cost silicon substrates based on simple fabrication method of silver nanoparticles and silicon nanowires decorated with these nanoparticles for use as a convenient practical platform for SERS-active substrates. In addition, the placement of silver nanoparticles on silicon nanowires allowed the autoaligning of the hot spots such that low cost Raman systems with normal incident laser can be used. These substrates have the ability to detect wide range of concentrations of pyridine, as low as 10 -11 M. An enhancement factor of around 6 to 8 × 10 5 was observed for silver nanoparticles alone. By depositing the same nanoparticles on silicon nanowires, the enhancement factor jumped by orders of magnitude to 10 11 .

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