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Chemical Vapor Deposition Growth of Few-Layer MoTe2 in the 2H, 1T′, and 1T Phases: Tunable Properties of MoTe2 Films

化学气相沉积 材料科学 沉积(地质) 图层(电子) 原子层沉积 逐层 纳米技术 化学工程 古生物学 工程类 沉积物 生物
作者
Thomas A. Empante,Yao Zhou,Velveth Klee,Ariana E. Nguyen,I-Hsi Lu,Michael D. Valentin,Sepedeh A. Naghibi Alvillar,Edwin Preciado,Adam J. Berges,Cindy S. Merida,Michael J. Gomez,Sarah Bobek,Miguel Isarraraz,Evan J. Reed,Ludwig Bartels
出处
期刊:ACS Nano [American Chemical Society]
卷期号:11 (1): 900-905 被引量:234
标识
DOI:10.1021/acsnano.6b07499
摘要

Chemical vapor deposition allows the preparation of few-layer films of MoTe2 in three distinct structural phases depending on the growth quench temperature: 2H, 1T', and 1T. We present experimental and computed Raman spectra for each of the phases and utilize transport measurements to explore the properties of the 1T MoTe2 phase. Density functional theory modeling predicts a (semi-)metallic character. Our experimental 1T films affirm the former, show facile μA-scale source-drain currents, and increase in conductivity with temperature, different from the 1T' phase. Variation of the growth method allows the formation of hybrid films of mixed phases that exhibit susceptibility to gating and significantly increased conductivity.
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