Silicon sensor quantum efficiency, reflectance, and calibration

校准 量子效率 光电子学 反射率 光学 材料科学 图像传感器 温度测量 物理 量子力学
作者
Michael P. Lesser
出处
期刊:Proceedings of SPIE 卷期号:9154: 915411-915411 被引量:5
标识
DOI:10.1117/12.2054752
摘要

Quantum Efficiency (QE) is one of the most important parameters when either evaluating or using an imaging sensor for scientific applications. For back illuminated CCD and CMOS imagers, QE is determined by temperature, antireflection (AR) coatings, backside charging mechanisms, and silicon thickness. The accurate and precise measurement of QE requires careful consideration of illumination, temperature, calibration standards, optics, electronic equipment and components, and scattered light. QE is also closely related to the reflectance from the sensor surface. We present in this paper a study of the QE and reflectance from a variety of sensors used for astronomical imaging. Particular attention is given to precise calibration, temperature effects, models vs. measurements, and measurement techniques. We discuss all these issues and how they relate to the measurement and actual performance of sensors with different areas, thicknesses, and AR coatings.

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