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van der Waals Stacking Induced Transition from Schottky to Ohmic Contacts: 2D Metals on Multilayer InSe

欧姆接触 堆积 范德瓦尔斯力 化学 肖特基势垒 肖特基二极管 凝聚态物理 量子隧道 密度泛函理论 费米能级 过渡金属 电子结构 光电子学 纳米技术 材料科学 电极 计算化学 分子 物理化学 物理 电子 催化作用 二极管 有机化学 量子力学 生物化学
作者
Tao Shen,Ji‐Chang Ren,Xinyi Liu,Shuang Li,Wei Liu
出处
期刊:Journal of the American Chemical Society [American Chemical Society]
卷期号:141 (7): 3110-3115 被引量:205
标识
DOI:10.1021/jacs.8b12212
摘要

Incorporation of two-dimensional (2D) materials in electronic devices inevitably involves contact with metals, and the nature of this contact (Ohmic and/or Schottky) can dramatically affect the electronic properties of the assembly. Controlling these properties to reliably form low-resistance Ohmic contact remains a great challenge due to the strong Fermi level pinning (FLP) effect at the interface. Herein, we employ density functional theory calculations to show that van der Waals stacking can significantly modulate Schottky barrier heights in the contact formed between multilayer InSe and 2D metals by suppressing the FLP effect. Importantly, the increase of InSe layer number induces a transition from Schottky to Ohmic contact, which is attributed to the decrease of the conduction band minimum and rise of the valence band maximum of InSe. Based on the computed tunneling and Schottky barriers, Cd3C2 is the most compatible electrode for 2D InSe among the materials studied. This work illustrates a straightforward method for developing more effective InSe-based 2D electronic nanodevices.
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