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Design, development and analysis of large-area industrial silicon solar cells featuring a full area polysilicon based passivating contact on the rear and selective passivating contacts on the front

材料科学 蚀刻(微加工) 钝化 光电子学 丝网印刷 各向同性腐蚀 纳米技术 复合材料 图层(电子)
作者
Pradeep Padhamnath,Wookjin Choi,Gabby De Luna,John Derek Arcebal,A. Rohatgi
出处
期刊:Solar Energy Materials and Solar Cells [Elsevier]
卷期号:256: 112351-112351 被引量:3
标识
DOI:10.1016/j.solmat.2023.112351
摘要

We present SERIS' biPoly™ technology platform on large-area (M2), n-type rear-junction silicon solar cells featuring selective poly-Si/SiOx based passivated contacts on the front side and full-area poly-Si/SiOx contacts on the rear. The selective poly-Si 'fingers' are formed using an industrial ink-jet masking process followed by wet-chemical etching. The metal contacts are formed by an industrial screen-printing process using high-temperature fire-though metal pastes. We obtain excellent passivation on the front and rear surfaces, resulting in iVoc values between 720 mV and 730 mV on unmetallized solar cells. After high-temperature metallization, we achieve 22% efficiency on solar cells with selective poly-Si fingers on the front. We further develop the model for biPoly™ solar cells and with the help of a detailed loss analysis and simulations, identify the various loss components to identify the device modifications required for efficiency improvements.
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