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Unraveling the Presence and Positions of Nitrogen Defects in Defective g‐C3N4 for Improved Organic Photocatalytic Degradation: Insights from Experiments and Theoretical Calculations

材料科学 降级(电信) 光催化 氮气 化学工程 化学物理 物理化学 催化作用 有机化学 物理 电信 化学 计算机科学 工程类
作者
Yong Liu,Xiaochuan Chen,Mohammadreza Kamali,Barbara Rossi,Lise Appels,Raf Dewil
出处
期刊:Advanced Functional Materials [Wiley]
被引量:1
标识
DOI:10.1002/adfm.202405741
摘要

Abstract In this work, nitrogen‐defective g‐C 3 N 4 with different nitrogen defect densities is synthesized for ciprofloxacin photocatalytic degradation. Compared with pristine g‐C 3 N 4 , g‐C 3 N 4 etched with NaBH 4 for 1 h exhibits an approximately ten‐fold increase in the rate constant of ciprofloxacin (CIP) degradation. The combined experimental analysis and theoretical calculations reveal that nitrogen defects can be incorporated into g‐C 3 N 4 in all nitrogen sites and that C─N═C is the most susceptible site. By incorporating nitrogen defects to induce defect states between the conduction band (CB) and valence band (VB), the electronic and band structures are tuned. The induced defect states can be downshifted to approach the valance band, reaching increased nitrogen defect density within optimum ranges to accommodate excited electrons to narrow the bandgap, extend the light absorption capability, and enhance the charge carrier separation and transfer efficiency. The g‐C 3 N 4 etched by NaBH 4 for 2 h with over‐introduced nitrogen defects exhibits a declined performance due to a deteriorated structure, and the over‐downshifted defect states turn out to be a new recombination center for charge carriers.
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