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Investigation of the etching mechanism of silicon nitride by CF4/O2/Ar gas mixture plasma in ICP

蚀刻（微加工） 等离子体 氮化硅 材料科学 氮化物 硅 反应离子刻蚀 等离子体刻蚀 机制（生物学） 分析化学（期刊） 化学 光电子学 纳米技术 图层（电子） 环境化学 哲学 物理 认识论 量子力学
作者
Liyue Gong,Qian Luo,Ziyan Tan,Chan Li,Na Li,Xinjie Wang,Fei Gao,Yong-Xin Liu,Zhenhua Bi,Xianxiu Mei
出处
期刊：Vacuum [Elsevier BV]
日期：2024-12-01 卷期号：: 114000-114000 被引量：1
标识
DOI：10.1016/j.vacuum.2024.114000
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