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Isoreticular Design of KTiOPO4-Like Deep-Ultraviolet Transparent Materials Exhibiting Strong Second-Harmonic Generation

紫外线 二次谐波产生 化学 吸收(声学) 非线性光学 透明度(行为) 光电子学 非线性光学 波长 纳米技术 光学 激光器 非线性系统 材料科学 法学 物理 量子力学 政治学
作者
Chunbo Jiang,Xingxing Jiang,Chao Wu,Zhipeng Huang,Zheshuai Lin,Mark G. Humphrey,Chi Zhang
出处
期刊:Journal of the American Chemical Society [American Chemical Society]
卷期号:144 (44): 20394-20399 被引量:42
标识
DOI:10.1021/jacs.2c08403
摘要

Second-harmonic generation (SHG) is of great technological importance for applications in nonlinear optics, but it remains challenging to engineer large SHG responses in the short-wavelength ultraviolet (UV) region owing to competing microstructure requirements. Herein, we report the first examples of d0 transition-metal-based (TM-based) deep-UV-transparent nonlinear optical (NLO) crystals MOF4H2 (M = Zr (ZOF), Hf (HOF)), which exhibit unprecedented short UV absorption edges (below 190 nm). Evolving from the KTiOPO4 (KTP) structure by an isoreticular node substitution strategy, the three-dimensional frameworks of ZOF and HOF consist of corner-sharing [MO2F6] moieties that are new functional units in deep-UV NLO material design, conferring wide UV transparency and strong phase-matchable SHG response (2.2 × KH2PO4 (ZOF) and 1.8 × KH2PO4 (HOF) at 1064 nm). Such d0-TM-based [MO2F6] polyhedra preclude deleterious d-d electronic transitions, resulting in significantly blue-shifted UV absorption edges of ZOF and HOF (<190 nm). The d0-TM-based [MO2F6] polyhedra introduced in this work offer a new perspective in the construction of deep-UV transparent NLO materials, demonstrating the feasibility of an isoreticular design strategy in developing functional NLO materials.
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