Microdose Effect of SGT MOSFETs induced by Heavy Ions

微量剂量 阈下传导 材料科学 阈值电压 重离子 光电子学 MOSFET 离子 辐照 阈下斜率 电压 电气工程 晶体管 物理 核物理学 工程类 药理学 医学 量子力学
作者
Zhuojun Chen,Jiang Xu,ZeYu Lei,Chenchen Zhang,Xin Wan
标识
DOI:10.1109/icreed59404.2023.10390806
摘要

The microdose effect of SGT (Shield Gate Trench) MOSFETs under heavy ion irradiation was studied, and the mechanism was further revealed by experiments measurement and TCAD simulations. It was demonstrated that heavy ion irradiation could result in subthreshold current of SGT MOSFETs increasing and threshold voltage negatively drifting. Besides, the degradation of threshold voltage is more serious under negative gate electrode bias in SGT MOSFETs.
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