On the breakdown process of capacitively coupled plasma in carbon tetrafluoride

双极扩散 等离子体 电离 原子物理学 撞击电离 电场 离子 电子 粒子(生态学) 化学 蒙特卡罗方法 材料科学 物理 地质学 海洋学 统计 有机化学 量子力学 数学
作者
Hao Wu,Zhaoyu Chen,Zhijiang Wang,Bo Rao,Wei Jiang,Ya Zhang
出处
期刊:Journal of Physics D [Institute of Physics]
卷期号:55 (25): 255203-255203 被引量:6
标识
DOI:10.1088/1361-6463/ac5772
摘要

Abstract Capacitively coupled plasma (CCP) in CF 4 has been widely used in the semiconductor industry. However, its breakdown process at low pressure has rarely been studied. In this paper, we study the whole CCP breakdown process in CF 4 using the 1D implicit particle-in-cell/Monte Carlo collision (PIC/MCC) method. The detailed evolution of the plasma parameters is given, and both the particle balance and power evolution are discussed. The electron density initially grows exponentially, driven by the penetrating electric field. Both the ionization in the discharge gap and the boundary interaction are significant for electron avalanches. The formation of a sheath maximizes the ionization rate and the heating power, which thoroughly changes the field structure. In the post-breakdown phase, the growing negative ion density shrink the sheaths and changes the heating mode from the α mode to the drift-ambipolar mode. The particle generation rate and heating power show a growth trend after a brief decline. The growth of the recombination rate slowly balances the gain and loss of ions, which finally stabilizes the discharge.
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