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Responsibility optimization of a high-speed InP/InGaAs photodetector with a back reflector structure

材料科学 光电子学 光电探测器 光学 反射器(摄影) 带宽(计算) 计算机科学 电信 物理 光源
作者
Yuxuan Wang,Guanyu Li,Xiaowen Gu,Yuechan Kong,Youdou Zheng,Yi Shi
出处
期刊:Optics Express [The Optical Society]
卷期号:30 (4): 4919-4919 被引量:17
标识
DOI:10.1364/oe.447596
摘要

Top-illuminated PIN photodetectors (PDs) are widely utilized in telecommunication systems, and more efforts have been focused on optimizing the optical responsibility and bandwidth for high-speed and capacity applications. In this work, we develop an integrated top-illuminated InP/InGaAs PIN PD with a back reflector by using a microtransfer printing (µ-TP) process. An improved µ-TP process, where the tether of silicon nitride instead of photoresist, is selected to support an underetched III-V device on an InP substrate before transfer. According to theoretical simulations and experimental measurements, the seamless integration of the PD with a back reflector through µ-TP process makes full use of the 2nd or even multiple reflecting light in the absorption layer to optimize the maximum responsibility. The integrated device with a 5 µm square p-mesa possesses a high optical responsibility of 0.78 A/W and 3 dB bandwidth of 54 GHz using a 500 nm i-InGaAs absorption layer. The present approach for top-illuminated PIN PDs demonstrates an advanced route in which a thin intrinsic layer is available for application in high-performance systems.

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