High temperature annealing of n-type bulk β-Ga2O3: Electrical compensation and defect analysis—The role of gallium vacancies

电子顺磁共振 空位缺陷 退火(玻璃) 材料科学 晶体缺陷 分析化学(期刊) 核磁共振 化学 结晶学 冶金 色谱法 物理
作者
H. J. von Bardeleben,Gaohang He,Ying Wu,Sunan Ding
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:134 (16) 被引量:5
标识
DOI:10.1063/5.0173581
摘要

The effect of high temperature annealing under O2 and N2 atmospheres on the electrical properties and defect formation on Sn doped n-type β-Ga2O3 bulk samples was investigated by electron paramagnetic resonance (EPR) spectroscopy. EPR, being a volume sensitive technique, probes the entire sample volume. Our results show an electrical compensation being correlated with the formation of a negatively charged Ga vacancy defect VGa2−. This VGa center is different from the one observed after particle irradiation. The associated shift of the Fermi level reveals the presence of Fe3+, Cu2+, and Cr3+, which are residuals related to the growth conditions. The 1100 °C N2 annealed sample is fully compensated, and the neutral donor resonance is no longer observed. Our results directly confirm the thermal instability of Ga and Sn in n-type conducting samples. No oxygen vacancy related centers were detected. We discuss the various Ga vacancy centers reported previously.
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