Individual Effects of Various Plasma-Related Factors on the High Aspect Ratio Oxide Etching Process at Low-Frequency Bias Power Using an Inductively Coupled Plasma System

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作者
Hye Jun Son,Alexander Efremov,Gilyoung Choi,Kwang‐Ho Kwon
出处
期刊:Plasma Chemistry and Plasma Processing [Springer Nature]
标识
DOI:10.1007/s11090-023-10363-6
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