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Interlayer coupling-induced controllable negative differential thermal resistance in graphene/h-BN van der Waals heterostructure

范德瓦尔斯力 材料科学 石墨烯 凝聚态物理 异质结 声子 联轴节(管道) 化学物理 纳米技术 光电子学 化学 物理 复合材料 分子 有机化学
作者
Xue-Kun Chen,Jia-Ling Tan,Min Pang,Zhong-Xiang Xie,Wu‐Xing Zhou,Jun Liu
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:121 (14) 被引量:6
标识
DOI:10.1063/5.0103901
摘要

The van der Waals (vdW) heterostructures employing graphene and hexagonal boron nitride (h-BN) have emerged as a typical system for building emergent two-dimensional devices, such as atomically thin transistors or capacitors. Herein, we study the nonlinear thermal transport in such vdW heterostructure by non-equilibrium molecular dynamics simulations. The results show that an obvious negative differential thermal resistance (NDTR) phenomenon can be observed under small temperature bias when the interlayer coupling becomes stronger. The vibrational spectra analysis manifests that the phonon filtering mechanism induced by interlayer coupling greatly hinders the interfacial thermal transport. To obtain the optimum conditions, the dependence of NDTR on the system length, lateral width, external temperature, and defect density is taken into account. Our findings extend the phonon filtering mechanism to thermal information processing.
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